Altuntaş İ. (Yürütücü)
Yükseköğretim Kurumları Destekli Proje, 2018 - 2019
Önerilen projede desenlendirilmiş safir alttaş
üzerine epitaksiyel olarak MOCVD (Metal Organik Kimyasal Buhar Biriktirme)
tekniği ile büyütülecek olan GaN epikristalinin büyütülmesi ve yapısal
özelliklerinin incelenmesi hedeflenmektedir. III nitrat yarıiletken
bileşiklerinin dalgaboyu spektrumunda UV’den yakın kızıl ötesi bölgeye kadar ki
kısımda ışıma yapmasına olanak sağlayan yüksek enerjili yasak bant aralığına
sahip olması nedeniyle son 20 yıldır hem araştırmacılar hem de sanayini için
aranan malzemeler olmuştur. III nitrat yarıiletkenlerinden özellikle GaN
yıllarca süren çalışmalar sonunda MOCVD tekniği ile başarılı bir şekilde
üretilebilmesinin ardından bu tabakayı kullanarak aydınlatma teknolojisi için
büyük bir öneme sahip olan mavi ışık yayan diyodun keşfi gerçekleşmiştir. Son
yıllar da araştırmacıların yoğun çalışmaları ile bu materyalin birçok özelliği bilinmesine
rağmen yeni kullanım alanları dolayısı ile halen yoğun olarak çalışılmaktadır.
Bu sebeple sunulan proje önerisinde de belirtildiği üzere MOCVD tekniği
yardımıyla yüksek kaliteye sahip GaN tabakası desenlendirilmiş safir alttaşı
üzerine epitaksiyel olarak büyütülmesi planlanmaktadır. Büyütme sırasında
yapının kalitesini etkileyen birçok büyüte koşulu mevcuttur. Bu proje
önerisinde yüksek sıcaklık GaN tabakası farklı V/III oranına sahip iki kısma
bölünecek ve büyütme sürelerinin etkileri araştırılacaktır. Proje süresi 12 ay
olarak öngörülmektedir.